Julkaisu - Tampereen teknillinen yliopisto

Systeemitekniikan laitos

Atomic layer deposited iridium oxide thin film as microelectrode coating in stem cell applications

Tekijä Ryynänen, Tomi; Ylä-Outinen, Laura; Narkilahti, Susanna; Tanskanen, Jarno M.A.; Hyttinen, Jari; Hämäläinen, Jani; Leskelä, Markku; Lekkala, Jukka
Lehden/sarjan nimi Journal of Vacuum Science and Technology A
Julkaisuvuosi 2012
Volyymi 30
Numero 4
Artikkelinumero 041501
Sivut 1-5
ISSN 0734-2101
DOI http://dx.doi.org/10.1116/1.4709447
Julkaisutyyppi a1
Referee alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, kansainvälinen
Laitos Systeemitekniikka
Biolääketieteen tekniikka

Takaisin julkaisuihin