Julkaisu - Tampereen teknillinen yliopisto

Systeemitekniikan laitos

Backside detection of photoresist development endpoint using surface plasmon resonance

Tekijä Ryynänen, T. & Lekkala, J.
Lehden/sarjan nimi ASMC 2007. Proceedings of the 18th Annual IEEE/SMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference, 11-12 June 2007, Stresa, Italy
Julkaisuvuosi 2007
Sivut p. 283-287
ISBN 1-4244-0653-6
ISSN 1078-8743
Julkaisutyyppi a4 j2tut
Referee artikkeli ja esitelmä tieteellisessä konferenssijulkaisussa, kansainvälinen
Laitos Mittaus- ja informaatiotekniikka

Takaisin julkaisuihin