Julkaisu - Tampereen teknillinen yliopisto

Optoelektroniikan tutkimuskeskus

The effect of iridium precursor on oxide-supported iridium catalysts prepared by atomic layer deposition

Tekijä Vuori, H.; Pasanen, Antti; Lindblad, M.; Valden, Mika; Niemela, M. Veringa; Krause, A. O. I.
Lehden/sarjan nimi Applied Surface Science
Julkaisuvuosi 2011
Volyymi 257
Numero 9
Sivut 4204-4210
ISSN 0169-4332
DOI http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2010.12.021
Julkaisutyyppi a1
Referee alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, kansainvälinen
Laitos Optoelektroniikan tutkimuskeskus

Takaisin julkaisuihin