High-power laser interference lithography process on photoresist: Effect of laser fluence and polarisation
| Tekijä | Ellman, M., Rodriquez, A., Perez, N., Echeverria, M., Verevkin, Y.K., Peng, C.S., Berthou, T., Wang, Z., Olaizola, S.M. & Ayerdi, I. |
|---|---|
| Lehden/sarjan nimi | Applied Surface Science |
| Julkaisuvuosi | 2009 |
| Volyymi | 255 |
| Numero | 10 |
| Sivut | pp. 5537-5541 |
| ISSN | 0169-4332 |
| DOI | http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2008.07.201 |
| Julkaisutyyppi | ar Artikkeli kansainvälisessä referee-lehdessä |
| Laitos | Optoelektroniikan tutkimuskeskus |