Cl2/N2-based plasma etching of high-aspect-ratio high-density nanopaterns in AlGaAs/GaAs, GaInAs/InP and AlGaAsSb/GaSb for nanophotonics applications
| Tekijä | Viheriälä, Jukka; Telkkälä, Jarkko; Viljanen, Milla-Riina; Aho, Antti; Wallenius, Aki; Vartiainen, Ismo; Paajaste, Jonna; Dumitrescu, Mihail |
|---|---|
| Konferenssin/kokoomateoksen nimi | MNE 2010 36th International Conference on Micro & Nano Engineering, Sep 19 - 22, 2010, Genoa, Italy |
| Julkaisuvuosi | 2010 |
| Sivut | 1p |
| Julkaisutyyppi | a4 j2tut Referee artikkeli ja esitelmä tieteellisessä konferenssijulkaisussa, kansainvälinen |
| Laitos | Optoelektroniikan tutkimuskeskus |