Julkaisu - Tampereen teknillinen yliopisto

Optoelektroniikan tutkimuskeskus

Site-controlled InAs quantum dots by nanoimprint lithography and molecular beam epitaxy

Tekijä Schramm, Andreas; Tommila, Juha; Sterlow, C.; Kipp, T.; Mews, A.; Hakkarainen, Teemu V.; Tukiainen, Antti; Dumitrescu, Mihail; Guina, Mircea
Lehden/sarjan nimi International Conference on Electronic Properties of Two-dimensional Systems EP2DS19 and the Conference on Modulated Semiconductor Structures MSS
Konferenssin/kokoomateoksen nimi "The 19th International Conference on Electronic Properties of Two-dimensional Systems EP2DS19 and the 15th Conference on Modulated Semiconductor Structures MSS 15 July 25 - 29, 2011,Tallahassee, Florida, USA
Julkaisuvuosi 2011
Sivut 96-96
Julkaisupaikka Tallahassee, FL
Kustantaja EP2DS
Julkaisutyyppi a4 j2tut
Referee artikkeli ja esitelmä tieteellisessä konferenssijulkaisussa, kansainvälinen
Laitos Optoelektroniikan tutkimuskeskus

Takaisin julkaisuihin