Narrow linewidth templates for nanoimprint lithography utilizing conformal deposition
| Tekijä | Viheriälä, J.; Rytkönen, T.; Niemi, T.; Pessa, M. |
|---|---|
| Lehden/sarjan nimi | Nanotechnology |
| Julkaisuvuosi | 2008 |
| Volyymi | 19 |
| Numero | 015302 |
| Sivut | 7 p |
| DOI | http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/19/01/015302 |
| Julkaisutyyppi | ar Artikkeli kansainvälisessä referee-lehdessä |
| Laitos | Optoelektroniikan tutkimuskeskus |