Julkaisu - Tampereen teknillinen yliopisto

Optoelektroniikan tutkimuskeskus

Quality inspection of nanoscale patterns produced by laser interference lithography using image analysis techniques

Tekijä Ji, Z., Zhang, J., Olaizola, S.M., Verevkin, Y.K., Peng, C., Tan, C., Berthou, T., Tisserand, S. & Wang, Z.
Lehden/sarjan nimi Proceedings of the 2009 IEEE International Conference on Mechatronics and Automation, ICMA 2009, 9-12 August 2009, Changchun, China
Julkaisuvuosi 2009
Sivut pp. 1835-1840
ISBN 978-1-4244-2693-5
Julkaisutyyppi a4 j2tut
Referee artikkeli ja esitelmä tieteellisessä konferenssijulkaisussa, kansainvälinen
Laitos Optoelektroniikan tutkimuskeskus

Takaisin julkaisuihin