Julkaisu - Tampereen teknillinen yliopisto

Optoelektroniikan tutkimuskeskus

Laser interference lithography for nanoscale structuring of materials: From laboratory to industry

Tekijä Rodriquez, A., Echeverria, M., Ellman, M., Perez, N., Verevkin, Y.K., Peng, C., Berthou, T., Wang, Z., Ayerdi, I., Savall, J. & Olaizola, S.M.
Lehden/sarjan nimi Microelectronic Engineering
Julkaisuvuosi 2009
Volyymi 86
Numero 4-6
Sivut 937-940
ISSN 0167-9317
DOI http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2008.12.043
Julkaisutyyppi ar
Artikkeli kansainvälisessä referee-lehdessä
Laitos Optoelektroniikan tutkimuskeskus

Takaisin julkaisuihin